首頁>>華兆科技（廣州）有限公司>>產品展示>>半導體設備
雙腔型原子層沉積ALD系統 參考價：面議
雙腔型原子層沉積ALD系統采用噴淋模式雙腔反應腔設計，核心面向高效研發與中試生產場景，可制備原子級精度的高質量薄膜，廣泛適配半導體、微電子、能源存儲、生物醫療等...
手套箱集成型原子層沉積ALD系統 參考價：面議
手套箱集成型原子層沉積ALD系統是一種高度專業化的薄膜制備設備。它將原子層沉積的高精度薄膜生長能力，與手套箱的惰性氣氛保護環境無縫結合，專門用于研發那些對空氣中...
單腔型原子層沉積ALD系統 參考價：面議
單腔型原子層沉積ALD系統主打科研研發與中小規模量產場景，可覆蓋 4 英寸至 12 英寸襯底的高精度納米薄膜沉積需求，是國內 ALD 設備領域的主流選型之一。
SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統 參考價：面議
SILAYO PEALD 光學涂層原子層沉積系統擴展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。
AIX G5 WW C CVD化合物化學氣相沉積系統 參考價：面議
AIX G5 WW C CVD化合物化學氣相沉積系統是面向6 英寸 SiC 功率器件量產的行星式 MOCVD 設備，主打高產能、高均勻性與低成本，是車規級碳化硅...
MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統 參考價：面議
MiniLab 090 PVD物理氣相沉積系統兼容手套箱，適用于直徑達11英寸的亞態的環境敏感應用。高腔室非常適合高效蒸發，但磁控管濺射也可用。
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機 參考價：面議
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優勢。該機臺為...
Nitride MBE Systems分子束外延系統 參考價：面議
Nitride MBE Systems分子束外延系統專門設計用于生長高質量的氮化物、鋁銨及相關氮化物材料。生長模塊設計用于處理高強度活性氮含量，并配備高溫基底加...
DWL 66+激光直寫光刻系統 參考價：面議
DWL 66+激光直寫光刻系統是高性價比、高分辨率的圖形發生器，適用于小批量掩膜版制作和直寫需求。該設備具有多種選配模塊，如對準系統、不同波長的激光發生器以及自...
織雀™系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻機 參考價：面議
織雀?系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻機， 最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設備還支持對準套刻功...
UV Litho-Y 無掩模光刻機 參考價：面議
UV Litho-Y 無掩模光刻機是一款桌面型無掩模版紫外光刻機，該機器具備了無掩模光刻機的諸多優點，桌面型的設計使其便于教學使用。不僅如此，該設備還針對教育場...
BIO 系列無掩模光刻機 參考價：面議
BIO 系列無掩模光刻機是生命科學版的無掩模紫外光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品...
UV Litho-S+ 無掩模光刻系統 參考價：面議
UV Litho-S+ 無掩模光刻系統是高速版的無掩模版紫外光刻機，其配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活...
UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統 參考價：面議
UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統是科研版的無掩模版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩模光刻，優異的靈活性使其成為科學研究的選擇。...
Nanocrystal 大幅面納米光刻系統 參考價：面議
Nanocrystal 大幅面納米光刻系統是專門為納米光學結構制備而設計的無掩模光刻系統，配置了可連續變空頻的位相干涉系統，實現亞波長光學結構的亞納米調控精度制...
MiScan 高效混合直寫光刻系統 參考價：面議
MiScan 高效混合直寫光刻系統是為中國市場定制的先進曝光設備，提供多種光源選擇及靈活的運動平臺配置。其亮點在于高分辨率、精細的灰度等級以及精密的套刻對準精度...
Microlab 多功能直寫光刻系統 參考價：面議
Microlab 多功能直寫光刻系統是專門為基礎研究而設計的多功能直寫光刻系統，配置405nm長壽命光源，能夠在多種近紫外光刻膠制備幾乎任何需要的微結構，應用例...
iGrapher 大型紫外直寫光刻系統 參考價：面議
iGrapher 大型紫外直寫光刻系統是專門為在大尺寸基片（米級幅面）上進行快速并高品質圖形化而設計的大型直寫光刻系統，iGrapher1000~3000，覆蓋...
ATHOS激光光刻系統 參考價：面議
ATHOS激光光刻系統是專為全息應用設計的激光光刻系統系列。憑借最高分辨率、最佳性能、灰度能力和高通量，它是全息圖、OVD、菲涅爾透鏡等多種設備生成的最佳解決方...
PicoMaster激光直寫光刻系統 參考價：面議
PicoMaster激光直寫光刻系統融合了高精度、高速度與強適配性，可滿足嚴苛的微納加工制造需求。從科研實驗室到半導體量產領域，PICOMASTER XF 可推...
PIONEER 電子束光刻系統 參考價：面議
PIONEER 電子束光刻系統是一款集成了電子束光刻（EBL）和掃描電子顯微鏡（SEM）功能的創新性儀器，專為高校和科研機構設計。它采用先進的熱場發射技術、多種...
VOYAGER 高性能電子束光刻系統 參考價：面議
VOYAGER 高性能電子束光刻系統集穩定高性能與簡易操作性于一體，全生命周期具備優異的性價比，是適用于科研學術與工業應用場景的通用型解決方案。設備采用全自動、...
EBPG 超高性能電子束光刻系統 參考價：面議
EBPG 超高性能電子束光刻系統以高精度實現穩定可重復的工藝結果，確保在各類基底上獲得高器件良率，是該電子束光刻系統的核心設計準則。在此基礎上，EBPG 極其適...
ULTRA 半導體有掩模直寫光刻系統 參考價：面議
ULTRA 半導體有掩模直寫光刻系統為微控制器、電源管理集成電路、發光二極管、物聯網設備、光電子學和微機電系統的光掩膜生產提供了功能出色、經濟高效的解決方案，可...
1